Dodávka souboru leptacích a depozičních zařízení pro sdílenou laboratoř CEITEC (Central European Institute of Technology) - Příprava a charakterizace nanostruktur. Dodávka zahrnuje následující zařízení:
- Vakuový systém pro hluboké leptaní křemíku,
- Vakuový systém pro depozici vrstev na bázi křemíku (a-Si,SiO2,Si3N4,SiC),
- Vakuový systém pro leptaní kovů, křemíku , oxidu křemíku a depozici uhlíkových vrstev
- Vakuový systém pro leptaní kovů, III-V materiálů (GaN,InP)
The object of the contract is the supply of Complex of etching and deposition devices for CEITEC (Central European Institute of Technology) core facility - Nanofabrication and Nanocharacterization. The supply contains following devices:
- Vacuum system for deep reactive ion etching of silicon,
- Vacuum system for deposition of thin films on the silicon based (a-Si,SiO2,Si3N4,SiC)
- Vacuum system for reactive ion etching of silicon, silicon oxide and deposition of carbon layers
- Vacuum system for reactive ion etching of metals, III-V materials (GaN,InP)
|