Dodávka souboru leptacích a depozičních zařízení pro sdílenou laboratoř CEITEC (Central European Institute of Technology) - Příprava a charakterizace nanostruktur. Dodávka zahrnuje následující zařízení:
- Vakuový systém pro hluboké leptaní křemíku,
- Vakuový systém pro depozici vrstev na bázi křemíku (a-Si,SiO2,Si3N4,SiC),
- Vakuový systém pro leptaní kovů, křemíku , oxidu křemíku a depozici uhlíkových vrstev,
- Vakuový systém pro leptaní kovů, III-V materiálů (GaN,InP),
- Vakuový systém pro depozici materiálů pomocí PECVD za vysoké teploty.
Zakázka může být zadávána rozdělena na dvě nebo více částí.
Kompletní popis předmětu zakázky bude uveden oznámení o zakázce a zadávací dokumentaci.
The subject matter of the contract is the supply of Complex of etching and deposition devices for CEITEC (Central European Institute of Technology) core facility - Nanofabrication and Nanocharacterization. The supply contains following devices:
- Vacuum system for deep reactive ion etching of silicon,
- Vacuum system for deposition of thin films on the silicon based (a-Si,SiO2,Si3N4,SiC),
- Vacuum system for reactive ion etching of silicon, silicon oxide and deposition of carbon layers,
- Vacuum system for reactive ion etching of metals, III-V materials (GaN,InP),
- Vacuum system for deposition of materials using PECVD at high temperature.
The tender may be procured in 2 or several lots.
Complete description of subject matter will be specified in the Contract notice and Tender documentation.
|