Veřejná zakázka: Leptací a depoziční zařízení projektu CEITEC

Informace o veřejné zakázce

fáze zadávacího řízení Zadáno (v archivu)
Zakázka byla zadána.
DBID: 3148
Systémové číslo: P14V00000633
Spisová značka: MU-ZAK/74864/2014/140657/CEITEC-CŘS
Dle zákona: č. 137/2006 Sb.
Evidenční číslo ve VVZ: 488214
Na základě předběžného oznámení:
Leptací a depoziční zařízení projektu CEITEC
Počátek běhu lhůt: 13.09.2014
Nabídku podat do: 10.11.2014 13:00

Název, druh veřejné zakázky a popis předmětu

  • Název: Leptací a depoziční zařízení projektu CEITEC
  • Druh veřejné zakázky: Dodávky
  • Zakázka je dělena na části (v rámci jednoho zadávacího řízení)

Stručný popis předmětu:
Předmětem zakázky je dodávka souboru leptacích a depozičních zařízení pro sdílenou laboratoř CEITEC (Central European Institute of Technology) - Příprava a charakterizace nanostruktur.
Zakázka je rozdělena na dvě části:
Předmětem části 1 je dodávka následujících zařízení:
- Vakuový systém pro depozici vrstev na bázi křemíku (a-Si,SiO2,Si3N4,SiC)
- Vakuový systém pro leptaní kovů, křemíku, oxidu křemíku a depozici uhlíkových vrstev
- Vakuový systém pro hluboké leptaní křemíku
- Vakuový systém pro leptaní kovů, III-V materiálů (GaN,InP)

Předmětem části 2 je dodávka zařízení:
- Vakuový systém pro depozici materiálů pomocí PECVD za vysoké teploty.

Kompletní popis předmětu zakázky a jejích částí je uveden v zadávací dokumentaci.

The subject matter of the contract is the supply of complex of etching and deposition devices for CEITEC (Central European Institute of Technology) core facility - Nanofabrication and Nanocharacterization.supply of complex of etching and deposition devices for CEITEC (Central European Institute of Technology) core facility - Nanofabrication and Nanocharacterization.

Public contract is subdivided into two lots.

The subject matter of the lot No.1 of the contract is supply of complex of the following devices:
- Vacuum system for deposition of thin films on the silicon based (a-Si,SiO2,Si3N4,SiC)
- Vacuum system for reactive ion etching of silicon, silicon oxide and deposition of carbon layers
- Vacuum system for deep reactive ion etching of silicon
- Vacuum system for reactive ion etching of metals, III-V materials (GaN,InP)

The subject matter of the lot No.2 of the contract is supply of following device:
Vacuum system for deposition of materials using PECVD at high temperature

For more information, please see the tender documentation.

Druh zadávacího řízení, předpokládaná hodnota

  • Druh řízení: otevřené řízení
  • Režim veřejné zakázky: nadlimitní
  • Předpokládaná hodnota: 45 900 000 Kč bez DPH

Zadavatel

  • Úřední název: Masarykova univerzita
  • IČO: 00216224
  • Poštovní adresa:
    Žerotínovo nám. 9
    601 77 Brno
  • Název oddělení: Centrální řídící struktura projektu CEITEC
  • Id profilu zadavatele ve VVZ: 60052494

Adresa kontaktního místa

Nabídky, resp. žádosti o účast podávat na:
prostřednictvím elektronického nástroje E-ZAK (https://zakazky.muni.cz) nebo na podatelnu rektorátu MU, Žerotínovo nám. 9, 601 77 Brno

Kontakt

Části veřejné zakázky

Položky předmětu

Zadávací dokumentace

Vysvětlení, doplnění, změny zadávací dokumentace

Ostatní zprávy k zakázce

Veřejné dokumenty

Formuláře

URL odkazy